In the assessment of wafer lithography processes, normalized image log-slope (NILS) gives the % change in width for a given % change in dose [1,2]. A nominal NILS value of 2 indicates 10% change in linewidth for 10% change in dose; the % change in linewidth is inversely proportional to the NILS. In a previous article [2], it was shown that NILS is better for a dark feature against a bright background than the other way around. Attenuated phase shift masks (attPSMs) help to improve the NILS to reach values of 2 or more, in cases where conventional binary masks can’t without an exorbitantly high dose.
Increasing the transmission of the attenuated phase shift mask [3] takes the improvement further. A higher transmission effectively makes the dark areas darker, which increases the image log-slope.
Figure 1. NILS is improved for higher transmission of the attenuated phase-shift mask. The images are taken along the long axis of a dense oblong (1.3:1) pattern with cross-dipole illumination. The graph on the right uses the log scale instead of linear scale for the y-axis, representing intensity. The more obvious dip indicates better NILS for the higher transmission (16% vs 6%).
Besides improving NILS, the mask error sensitivity and depth of focus are also improved [3]. Improving the NILS is particularly important for improving the resolution of 2D shapes such as in Figure 1 or in the header above this article. For the 12% attPSM of Ref. 3, a square feature width of 65% of pitch with cross-dipole illumination (for tightest 2D resolution: dipole illumination in X + dipole illumination in Y) just manages to hit a NILS of 2.0 in both x and y. This is another opportunity to improve 2D resolution for DUV, especially for core patterning for self-aligned double patterning (SADP) [4].
посилання
[1] C. A. Mack, “Using the Normalized Image Log-Slope,” The Lithography Expert, Microlithography World, Winter 2001: http://lithoguru.com/scientist/litho_tutor/TUTOR32%20(Winter%2002).pdf
[2] F. Chen, “Phase-Shifting Masks for NILS Improvement – A Handicap for EUV?”, https://www.linkedin.com/pulse/phase-shifting-masks-nils-improvement-handicap-euv-frederick-chen
[3] T. Faure et al., “Development of a new high transmission phase shift mask technology for 10 nm logic node,” Proc. SPIE 9984, 998402 (2016).
[4] H. Yaegashi et al., “Overview: continuous evolution on double-patterning process,” Proc. SPIE 8325, 83250B (2012).
Також читайте:
Assessing EUV Wafer Output: 2019-2022
Application-Specific Lithography: 28 nm Pitch Two-Dimensional Routing
Поділитися цим дописом через:
- Розповсюдження контенту та PR на основі SEO. Отримайте посилення сьогодні.
- PlatoData.Network Vertical Generative Ai. Додайте собі сили. Доступ тут.
- PlatoAiStream. Web3 Intelligence. Розширення знань. Доступ тут.
- ПлатонЕСГ. Автомобільні / електромобілі, вуглець, CleanTech, Енергія, Навколишнє середовище, Сонячна, Поводження з відходами. Доступ тут.
- BlockOffsets. Модернізація екологічної компенсаційної власності. Доступ тут.
- джерело: https://semiwiki.com/lithography/331512-nils-enhancement-with-higher-transmission-phase-shift-masks/
- :є
- :де
- 1
- 1.3
- 10
- 2001
- 2012
- 2016
- 28
- 2D
- a
- вище
- проти
- AL
- по
- Також
- an
- та
- Інший
- ЕСТЬ
- області
- навколо
- стаття
- AS
- оцінка
- Вісь
- фон
- Краще
- обидва
- Яскраво
- випадків
- зміна
- Чень
- безперервний
- звичайний
- Core
- темно
- темніше
- щільний
- глибина
- нахил
- доза
- подвійний
- E&T
- фактично
- Посилення
- помилка
- особливо
- еволюція
- експерт
- особливість
- Рисунок
- Сфокусувати
- для
- далі
- даний
- дає
- графік
- допомога
- Високий
- вище
- хіт
- HTTP
- HTTPS
- зображення
- зображень
- важливо
- удосконалювати
- поліпшений
- поліпшення
- поліпшення
- in
- Збільшує
- вказує
- замість
- IT
- просто
- журнал
- логіка
- Довго
- РОБОТИ
- управляє
- маска
- маски
- макс-ширина
- більше
- Нові
- вузол
- Очевидний
- of
- on
- Можливість
- or
- Інше
- вихід
- особливо
- Викрійки
- фаза
- Крок
- plato
- Інформація про дані Платона
- PlatoData
- пошта
- попередній
- Праймер для вій
- ПРОЦ
- процес
- процеси
- досягати
- Читати
- представляє
- дозвіл
- право
- шкала
- Чутливість
- форми
- зсув
- показаний
- площа
- такі
- T
- прийняті
- приймає
- Технологія
- ніж
- Що
- Команда
- Графік
- це
- до
- використовує
- значення
- Цінності
- через
- vs
- було
- шлях..
- який
- Зима
- з
- без
- світ
- X
- зефірнет