Lithographers have always faced tradeoffs between speed and flexibility. Steppers are very good at printing hundreds or thousands of identical features onto hundreds or thousands of wafers. They are not especially good at handling surfaces with significant topography, though. Nor is customization feasible. Every exposure uses the same reticle.
Direct write e-beam lithography has long been used by photomask shops, where it is justified by the need for near-perfection in high-precision “tooling.” The advantages of maskless lithography are less clear elsewhere in the process. Direct laser imaging dissipates a lot of heat into the photoresist, and resolution is limited by the dimensions of the laser spot. Most direct-write tools are slow compared to comparable steppers.
At the same time, advanced packaging and MEMS applications are very challenging for conventional steppers. The topography of the surface being patterned can be uneven, especially in fan-out wafer level packaging. The desired features themselves are often quite thick, requiring thick photoresists.
Meanwhile, automotive applications in particular require individual part traceability for regulatory and security reasons. The ease of customization in maskless exposures makes them particularly well-suited to high security applications. A simple change in the last metal layer can be used to embed a chip’s serial number directly in the chip itself, before packaging and molding. Top-level wiring changes can be used to embed encryption keys, as well.
Maskless exposure system supports this kind of customization. More generally, though, it can be used to solve exposure problems that steppers can’t. For example, it can pattern arbitrary wafer-scale black resist shapes for CMOS image sensor lens shields and display applications, and with laser diodes at different wavelengths, it can expose two different photoresists in a single imaging pass.
Steppers aren’t going anywhere, of course. They are unsurpassed in situations calling for large numbers of identical features. When the features to be printed are not identical, though, or where the pattern is larger than a single mask, maskless lithography can fill the void.
کیتھرین ڈربی شائر
(تمام پوسٹس)
Katherine Derbyshire is a technical editor at Semiconductor Engineering.
- SEO سے چلنے والا مواد اور PR کی تقسیم۔ آج ہی بڑھا دیں۔
- پلیٹو ڈیٹا ڈاٹ نیٹ ورک ورٹیکل جنریٹو اے آئی۔ اپنے آپ کو بااختیار بنائیں۔ یہاں تک رسائی حاصل کریں۔
- پلیٹوآئ اسٹریم۔ ویب 3 انٹیلی جنس۔ علم میں اضافہ۔ یہاں تک رسائی حاصل کریں۔
- پلیٹو ای ایس جی۔ آٹوموٹو / ای وی، کاربن، کلین ٹیک، توانائی ، ماحولیات، شمسی، ویسٹ مینجمنٹ یہاں تک رسائی حاصل کریں۔
- پلیٹو ہیلتھ۔ بائیوٹیک اینڈ کلینیکل ٹرائلز انٹیلی جنس۔ یہاں تک رسائی حاصل کریں۔
- چارٹ پرائم۔ ChartPrime کے ساتھ اپنے ٹریڈنگ گیم کو بلند کریں۔ یہاں تک رسائی حاصل کریں۔
- بلاک آفسیٹس۔ ماحولیاتی آفسیٹ ملکیت کو جدید بنانا۔ یہاں تک رسائی حاصل کریں۔
- ماخذ: https://semiengineering.com/is-maskless-lithography-coming-into-its-own/
- : ہے
- : ہے
- : نہیں
- :کہاں
- 27
- 60
- 80
- a
- اعلی درجے کی
- فوائد
- تمام
- تمام پوسٹیں
- ہمیشہ
- اور
- کہیں
- ایپلی کیشنز
- کیا
- AS
- At
- آٹوموٹو
- BE
- رہا
- اس سے پہلے
- کیا جا رہا ہے
- کے درمیان
- سیاہ
- by
- بلا
- کر سکتے ہیں
- چیلنج
- تبدیل
- تبدیلیاں
- چپ
- واضح
- آنے والے
- موازنہ
- مقابلے میں
- روایتی
- کورس
- اصلاح
- مطلوبہ
- مختلف
- طول و عرض
- براہ راست
- براہ راست
- دکھائیں
- کو کم
- ایڈیٹر
- دوسری جگہوں پر
- یمبیڈ
- خفیہ کاری
- انجنیئرنگ
- خاص طور پر
- ہر کوئی
- مثال کے طور پر
- نمائش
- سامنا
- ممکن
- خصوصیات
- بھرنے
- لچک
- کے لئے
- عام طور پر
- جا
- اچھا
- ہینڈلنگ
- ہے
- ہائی
- HTTPS
- سینکڑوں
- ایک جیسے
- تصویر
- امیجنگ
- in
- انفرادی
- میں
- IT
- میں
- خود
- فوٹو
- چابیاں
- بچے
- بڑے
- بڑے
- لیزر
- آخری
- پرت
- لینس
- کم
- سطح
- لمیٹڈ
- لانگ
- بہت
- بناتا ہے
- ماسک
- دھات
- زیادہ
- سب سے زیادہ
- ضرورت ہے
- اور نہ ہی
- تعداد
- تعداد
- of
- اکثر
- or
- خود
- پیکیجنگ
- حصہ
- خاص طور پر
- خاص طور پر
- منظور
- پاٹرن
- تصویر
- پلاٹا
- افلاطون ڈیٹا انٹیلی جنس
- پلیٹو ڈیٹا
- مراسلات
- پرنٹنگ
- مسائل
- عمل
- وجوہات
- ریگولیٹری
- کی ضرورت
- قرارداد
- اسی
- سیکورٹی
- سیمکولیٹر
- سیریل
- سائز
- دکانیں
- اہم
- سادہ
- ایک
- حالات
- سست
- حل
- تیزی
- کمرشل
- کی حمایت کرتا ہے
- سطح
- کے نظام
- ٹیکنیکل
- سے
- کہ
- ۔
- ان
- خود
- وہ
- اس
- اگرچہ؟
- ہزاروں
- تھمب نیل
- وقت
- کرنے کے لئے
- اوزار
- اوپر کی سطح
- Traceability
- دو
- استعمال کیا جاتا ہے
- استعمال
- بہت
- طول موج
- اچھا ہے
- جب
- ساتھ
- لکھنا
- زیفیرنیٹ