2D 재료를 사용하여 트랜지스터의 접촉 저항 개선

트랜지스터는 컴퓨터에서 휴대폰에 이르기까지 모든 분야에 사용되는 현대 전자 제품의 필수 구성 요소입니다. 그러나 트랜지스터의 주요 문제 중 하나는 접촉 저항으로 인해 성능과 효율성이 제한될 수 있습니다. 다행스럽게도 최근 2D 재료의 발전으로 인해 트랜지스터의 접촉 저항을 향상시킬 수 있는 새로운 가능성이 열렸습니다.

2D 재료는 원자 두께가 XNUMX~XNUMX개에 불과한 재료 종류입니다. 이로 인해 믿을 수 없을 정도로 얇고 가벼우면서도 전도성이 뛰어납니다. 결과적으로 트랜지스터와 다른 구성 요소 사이에 매우 낮은 저항 접점을 생성하는 데 사용할 수 있습니다. 이는 열의 형태로 손실되는 에너지의 양을 줄이고 트랜지스터의 효율을 높입니다.

접촉 저항을 향상시키는 가장 유망한 2D 재료 중 하나는 그래핀입니다. 그래핀은 육각형 격자로 배열된 탄소 원자의 단일 층입니다. 전기 전도성과 열 전도성이 뛰어나 트랜지스터 간의 저저항 접점을 만드는 데 이상적인 소재입니다. 또한, 그래핀은 매우 강하고 유연하여 다양한 응용 분야에 사용하기에 적합합니다.

또 다른 유망한 2D 재료는 이황화 몰리브덴(MoS2)입니다. MoS2는 육각형 격자로 배열된 단일 원자층이라는 점에서 그래핀과 유사합니다. 하지만 그래핀보다 전기 전도도가 높아 트랜지스터 사이의 저저항 접점을 만드는 데 더욱 적합합니다.

그래핀과 MoS2 외에도 트랜지스터의 접촉 저항을 향상시키는 데 사용할 수 있는 몇 가지 다른 2D 재료가 있습니다. 여기에는 질화붕소, 육각형 질화붕소 및 전이금속 디칼코게나이드가 포함됩니다. 이러한 각 재료는 다양한 응용 분야에 적합한 고유한 특성을 가지고 있습니다.

전반적으로 2D 재료는 트랜지스터의 접촉 저항을 향상시키는 유망한 방법을 제공합니다. 이러한 재료를 사용하여 트랜지스터와 기타 구성 요소 사이에 저저항 접점을 생성함으로써 엔지니어는 장치의 효율성과 성능을 높일 수 있습니다. 2D 재료에 대한 연구가 계속해서 발전함에 따라 앞으로 이러한 재료에 대한 더 많은 응용 분야를 볼 수 있을 것으로 예상됩니다.

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• 출처 : Plato Data Intelligence : 플라톤AiStream