In the assessment of wafer lithography processes, normalized image log-slope (NILS) gives the % change in width for a given % change in dose [1,2]. A nominal NILS value of 2 indicates 10% change in linewidth for 10% change in dose; the % change in linewidth is inversely proportional to the NILS. In a previous article [2], it was shown that NILS is better for a dark feature against a bright background than the other way around. Attenuated phase shift masks (attPSMs) help to improve the NILS to reach values of 2 or more, in cases where conventional binary masks can’t without an exorbitantly high dose.
Increasing the transmission of the attenuated phase shift mask [3] takes the improvement further. A higher transmission effectively makes the dark areas darker, which increases the image log-slope.
Figure 1. NILS is improved for higher transmission of the attenuated phase-shift mask. The images are taken along the long axis of a dense oblong (1.3:1) pattern with cross-dipole illumination. The graph on the right uses the log scale instead of linear scale for the y-axis, representing intensity. The more obvious dip indicates better NILS for the higher transmission (16% vs 6%).
Besides improving NILS, the mask error sensitivity and depth of focus are also improved [3]. Improving the NILS is particularly important for improving the resolution of 2D shapes such as in Figure 1 or in the header above this article. For the 12% attPSM of Ref. 3, a square feature width of 65% of pitch with cross-dipole illumination (for tightest 2D resolution: dipole illumination in X + dipole illumination in Y) just manages to hit a NILS of 2.0 in both x and y. This is another opportunity to improve 2D resolution for DUV, especially for core patterning for self-aligned double patterning (SADP) [4].
הפניות
[1] C. A. Mack, “Using the Normalized Image Log-Slope,” The Lithography Expert, Microlithography World, Winter 2001: http://lithoguru.com/scientist/litho_tutor/TUTOR32%20(Winter%2002).pdf
[2] F. Chen, “Phase-Shifting Masks for NILS Improvement – A Handicap for EUV?”, https://www.linkedin.com/pulse/phase-shifting-masks-nils-improvement-handicap-euv-frederick-chen
[3] T. Faure et al., “Development of a new high transmission phase shift mask technology for 10 nm logic node,” Proc. SPIE 9984, 998402 (2016).
[4] H. Yaegashi et al., “Overview: continuous evolution on double-patterning process,” Proc. SPIE 8325, 83250B (2012).
גם לקרוא:
הערכת פלט EUV Wafer: 2019-2022
ליטוגרפיה ספציפית ליישום: ניתוב דו מימדי של 28 ננומטר
שתף את הפוסט הזה באמצעות:
- הפצת תוכן ויחסי ציבור מופעל על ידי SEO. קבל הגברה היום.
- PlatoData.Network Vertical Generative Ai. העצים את עצמך. גישה כאן.
- PlatoAiStream. Web3 Intelligence. הידע מוגבר. גישה כאן.
- PlatoESG. רכב / רכבים חשמליים, פחמן, קלינטק, אנרגיה, סביבה, שמש, ניהול פסולת. גישה כאן.
- BlockOffsets. מודרניזציה של בעלות על קיזוז סביבתי. גישה כאן.
- מקור: https://semiwiki.com/lithography/331512-nils-enhancement-with-higher-transmission-phase-shift-masks/
- :הוא
- :איפה
- 1
- 1.3
- 10
- 2001
- 2012
- 2016
- 28
- 2D
- a
- מֵעַל
- נגד
- AL
- לאורך
- גם
- an
- ו
- אחר
- ARE
- אזורים
- סביב
- מאמר
- AS
- הערכה
- צִיר
- רקע
- מוטב
- שניהם
- בָּהִיר
- מקרים
- שינוי
- חן
- רציף
- מקובל
- ליבה
- כהה
- כהה יותר
- צפוף
- עומק
- לטבול
- מנה
- לְהַכפִּיל
- E&T
- יעילות
- הגברה
- שגיאה
- במיוחד
- אבולוציה
- מומחה
- מאפיין
- תרשים
- להתמקד
- בעד
- נוסף
- נתן
- נותן
- גרף
- לעזור
- גָבוֹהַ
- גבוה יותר
- מכה
- http
- HTTPS
- תמונה
- תמונות
- חשוב
- לשפר
- משופר
- השבחה
- שיפור
- in
- עליות
- מצביע על
- במקום
- IT
- רק
- לינקדין
- היכנס
- הגיון
- ארוך
- עושה
- מצליח
- מסכה
- מבחר המסיכות
- max-width
- יותר
- חדש
- צומת
- ברור
- of
- on
- הזדמנות
- or
- אחר
- תפוקה
- במיוחד
- תבנית
- שלב
- גובה הצליל
- אפלטון
- מודיעין אפלטון
- אפלטון נתונים
- הודעה
- קודם
- תחל
- PROC
- תהליך
- תהליכים
- לְהַגִיעַ
- חומר עיוני
- המייצג
- החלטה
- תקין
- סולם
- רְגִישׁוּת
- צורות
- משמרת
- הראה
- מרובע
- כזה
- T
- משימות
- לוקח
- טכנולוגיה
- מֵאֲשֶׁר
- זֶה
- השמיים
- הגרף
- זֶה
- ל
- שימושים
- ערך
- ערכים
- באמצעות
- vs
- היה
- דֶרֶך..
- אשר
- חוֹרֶף
- עם
- לְלֹא
- עוֹלָם
- X
- זפירנט