एमएक्सईएन को क्वांटम डॉट फोटोवोल्टिक कोशिकाओं पर एक साथ लगाने से दक्षता और स्थिरता बढ़ जाती है

(नानावरक न्यूज़) ऊर्जा इंजीनियरिंग विभाग के प्रोफेसर जोंग-मिन चोई के नेतृत्व में एक शोध दल ने एक ऐसी तकनीक विकसित की है जो दक्षता में काफी सुधार कर सकती है क्वांटम डॉट कार्बनिक विलायक फैलाने योग्य पेश करके फोटोवोल्टिक कोशिकाएं एमएक्सईएन. में निष्कर्ष प्रकाशित किए गए थे उन्नत ऊर्जा सामग्री ("कार्बनिक विलायक फैलाने योग्य एमएक्सईएन एकीकृत कोलाइडल क्वांटम डॉट फोटोवोल्टिक्स"). एमएक्सईएन की सतह संशोधन के अनुसार क्वांटम डॉट सौर सेल स्याही कार्बनिक विलायक की फैलावशीलता की तुलना। (छवि: डीजीआईएसटी) क्वांटम डॉट फोटोवोल्टिक कोशिकाओं ने हाल के वर्षों में तेजी से विकास प्रक्रिया की है। हालाँकि, ऊर्जा स्तर के गलत संरेखण और सतह की दरारों के कारण प्रदर्शन अभी भी सीमित है, जहां प्रकाश-अवशोषित सामग्री और छेद हस्तांतरण सामग्री के बीच ऊर्जा का स्तर ठीक से व्यवस्थित नहीं है। विशेष रूप से, ऊर्जा स्तर का गलत संरेखण विद्युत आवेशों के कुशल निष्कर्षण को रोकता है, जो फोटोवोल्टिक कोशिकाओं के प्रदर्शन को काफी कम कर देता है। इस समस्या को हल करने के लिए, प्रोफेसर चोई की शोध टीम ने क्वांटम डॉट फोटोवोल्टिक कोशिकाओं पर 2डी संरचना के एमएक्सईएन को लागू करने के लिए एक तकनीक विकसित की है। पॉलीकैटेकोल, अपनी उत्कृष्ट कार्बनिक विलायक फैलाव क्षमता के साथ, एमएक्सईएन संरचना की सतह के साथ जोड़ा गया था ताकि इसे क्वांटम डॉट स्याही प्रक्रियाओं पर लागू किया जा सके। एमएक्सईएन की शुरूआत के साथ, क्वांटम डॉट फिल्म ने एक उच्च फर्मी स्तर का गठन किया और ऊर्जा स्तर संरेखण बेमेल समस्या को हल करने में क्वांटम डॉट्स की चार्ज पुनर्व्यवस्था हासिल की गई। इसके अलावा, 2डी-संरचित एमएक्सईएन डिवाइस के माध्यम से धातु के प्रवेश को रोकता है, बिजली रूपांतरण दक्षता को 12.8% से 13.6% तक सुधारता है और लगभग 30% की बढ़ी हुई थर्मल स्थिरता के साथ। प्रोफेसर चोई ने कहा कि "इस अध्ययन में, हमने क्वांटम डॉट फोटोवोल्टिक कोशिकाओं की दक्षता में सुधार करने का एक तरीका विकसित किया है और अगली पीढ़ी के क्वांटम डॉट इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों में एमएक्सईएन लागू करने का विचार प्रस्तुत किया है।" उन्होंने आगे कहा कि "हम भविष्य के अनुसंधान के माध्यम से क्वांटम डॉट फोटोवोल्टिक कोशिकाओं की स्थिरता के साथ-साथ दक्षता में सुधार के लिए सतह स्थिरीकरण तकनीक विकसित करने का इरादा रखते हैं।"

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• स्रोत: https://www.nanowerk.com/nanotechnology-news3/newsid=64308.php