Lithographers have always faced tradeoffs between speed and flexibility. Steppers are very good at printing hundreds or thousands of identical features onto hundreds or thousands of wafers. They are not especially good at handling surfaces with significant topography, though. Nor is customization feasible. Every exposure uses the same reticle.
Direct write e-beam lithography has long been used by photomask shops, where it is justified by the need for near-perfection in high-precision “tooling.” The advantages of maskless lithography are less clear elsewhere in the process. Direct laser imaging dissipates a lot of heat into the photoresist, and resolution is limited by the dimensions of the laser spot. Most direct-write tools are slow compared to comparable steppers.
At the same time, advanced packaging and MEMS applications are very challenging for conventional steppers. The topography of the surface being patterned can be uneven, especially in fan-out wafer level packaging. The desired features themselves are often quite thick, requiring thick photoresists.
Meanwhile, automotive applications in particular require individual part traceability for regulatory and security reasons. The ease of customization in maskless exposures makes them particularly well-suited to high security applications. A simple change in the last metal layer can be used to embed a chip’s serial number directly in the chip itself, before packaging and molding. Top-level wiring changes can be used to embed encryption keys, as well.
Maskless exposure system supports this kind of customization. More generally, though, it can be used to solve exposure problems that steppers can’t. For example, it can pattern arbitrary wafer-scale black resist shapes for CMOS image sensor lens shields and display applications, and with laser diodes at different wavelengths, it can expose two different photoresists in a single imaging pass.
Steppers aren’t going anywhere, of course. They are unsurpassed in situations calling for large numbers of identical features. When the features to be printed are not identical, though, or where the pattern is larger than a single mask, maskless lithography can fill the void.
کاترین دربی شایر
(همه پست ها)
Katherine Derbyshire is a technical editor at Semiconductor Engineering.
- محتوای مبتنی بر SEO و توزیع روابط عمومی. امروز تقویت شوید.
- PlatoData.Network Vertical Generative Ai. به خودت قدرت بده دسترسی به اینجا.
- PlatoAiStream. هوش وب 3 دانش تقویت شده دسترسی به اینجا.
- PlatoESG. خودرو / خودروهای الکتریکی، کربن ، CleanTech، انرژی، محیط، خورشیدی، مدیریت پسماند دسترسی به اینجا.
- PlatoHealth. هوش بیوتکنولوژی و آزمایشات بالینی. دسترسی به اینجا.
- ChartPrime. بازی معاملاتی خود را با ChartPrime ارتقا دهید. دسترسی به اینجا.
- BlockOffsets. نوسازی مالکیت افست زیست محیطی. دسترسی به اینجا.
- منبع: https://semiengineering.com/is-maskless-lithography-coming-into-its-own/
- : دارد
- :است
- :نه
- :جایی که
- 27
- 60
- 80
- a
- پیشرفته
- مزایای
- معرفی
- همه پست ها
- همیشه
- و
- هر جا
- برنامه های کاربردی
- هستند
- AS
- At
- خودرو
- BE
- بوده
- قبل از
- بودن
- میان
- سیاه پوست
- by
- فراخوانی
- CAN
- به چالش کشیدن
- تغییر دادن
- تبادل
- تراشه
- واضح
- آینده
- قابل مقایسه
- مقایسه
- معمولی
- دوره
- سفارشی سازی
- مطلوب
- مختلف
- ابعاد
- مستقیم
- مستقیما
- نمایش دادن
- سهولت
- سردبیر
- در جای دیگر
- جاسازی کردن
- رمزگذاری
- مهندسی
- به خصوص
- هر
- مثال
- ارائه
- در مواجهه
- امکان پذیر است
- امکانات
- پر کردن
- انعطاف پذیری
- برای
- عموما
- رفتن
- خوب
- اداره
- آیا
- زیاد
- HTTPS
- صدها نفر
- یکسان
- تصویر
- تصویربرداری
- in
- فرد
- به
- IT
- ITS
- خود
- JPG
- کلید
- نوع
- بزرگ
- بزرگتر
- لیزر
- نام
- لایه
- عدسی
- کمتر
- سطح
- محدود شده
- طولانی
- خیلی
- باعث می شود
- ماسک
- فلز
- بیش
- اکثر
- نیاز
- نه
- عدد
- تعداد
- of
- غالبا
- or
- خود
- بسته بندی
- بخش
- ویژه
- ویژه
- عبور
- الگو
- عکس
- افلاطون
- هوش داده افلاطون
- PlatoData
- پست ها
- چاپ
- مشکلات
- روند
- دلایل
- تنظیم کننده
- نیاز
- وضوح
- همان
- تیم امنیت لاتاری
- نیمه هادی
- سریال
- اشکال
- مغازه ها
- قابل توجه
- ساده
- تنها
- شرایط
- کند
- حل
- سرعت
- Spot
- پشتیبانی از
- سطح
- سیستم
- فنی
- نسبت به
- که
- La
- آنها
- خودشان
- آنها
- این
- اگر چه؟
- هزاران نفر
- کوچک
- زمان
- به
- ابزار
- سطح عالی
- قابلیت ردیابی
- دو
- استفاده
- استفاده
- بسیار
- طول موج
- خوب
- چه زمانی
- با
- نوشتن
- زفیرنت