Empfindliche Fotolacke für die Hochgeschwindigkeits-Zwei-Photonen-Lithographie – Nature Nanotechnology

Empfindliche Fotolacke für die Hochgeschwindigkeits-Zwei-Photonen-Lithographie – Nature Nanotechnology

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Verlagsnotiz Springer Nature bleibt hinsichtlich der gerichtlichen Ansprüche in veröffentlichten Karten und institutionellen Verbindungen neutral.

Dies ist eine Zusammenfassung von: Liu, T. et al. Fotolacke mit ultrahoher Druckgeschwindigkeit für die additive Fertigung. Nat. Nanotechnologie. https://doi.org/10.1038/s41565-023-01517-w (2023).

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