UMC introducerar 28eHV+-plattform för trådlösa, VR/AR, IoT-displayapplikationer

UMC introducerar 28eHV+-plattform för trådlösa, VR/AR, IoT-displayapplikationer

Tidsstämpel: 5 mars 2023 11:50
Källnod: 1997355

United Microelectronics Corporation, ett globalt halvledargjuteri, har avslöjat sin 28eHV+-plattform, förbättringen av sin 28nm inbyggda högspänningsteknik (eHV). 28eHV+ levererar högre energieffektivitet och visuell kvalitet och är en idealisk drivrutinslösning för att driva nästa generations skärmar som används i smartphones, virtuella och förstärkta verklighetsenheter och IoT.

Jämfört med den beprövade 28nm eHV-processen erbjuder UMC:s 28eHV+-lösning upp till 15 % minskning av strömförbrukningen utan att kompromissa med bildkvalitet eller datahastigheter, vilket tillgodoser kraven på längre batteritid för enheter. Den erbjuder också optimerade funktioner för att möjliggöra högre noggrannhet i spänningskontroll och större flexibilitet för chipdesigners.

För eHV-teknik är 28nm för närvarande den mest avancerade gjuteriprocessen för småskärmsdrivrutiner (SDDI), som används i AMOLED-paneler som alltmer används i avancerade smartphones och AR/VR-enheter. UMC är gjuterileverantören med över 85 % av 28nm SDDI-marknaden, efter att ha levererat mer än 400 miljoner enheter sedan volymproduktionen började 2020.

"Vi är glada över att introducera vår 28eHV+-plattform, som redan har fått flera kunders intresse och kommer att gå in i produktion under första halvåret 2023", säger Steven Hsu, UMC:s vice vd för teknikutveckling. "Som en ledande leverantör av specialgjuteriteknik erbjuder UMC differentierade lösningar som är anpassade till våra kunders färdplaner, vilket gör det möjligt för dem att ta vara på möjligheter på snabbt växande marknader. Efter lanseringen av 28eHV+ kommer våra utvecklingsteam att arbeta med att utöka våra skärmdrivrutiner till 22nm och längre."

UMC:s 28eHV+-teknik har de små SRAM-bitcellerna, vilket minskar chipytan. Den är baserad på företagets 28nm gate-last High-K/Metal Gate-teknologi, som har lågt läckage och dynamisk kraftprestanda.

Kommentera den här artikeln nedan eller via Twitter: @IoTNow_OR @jcIoTnow

Tidsstämpel:

Mer från IoT nu