半導体

SEMI-PointRend: SEM 画像における半導体欠陥解析の精度と詳細の向上

半導体の欠陥解析は、半導体デバイスの品質を確保するための重要なプロセスです。 したがって、デバイスに存在する欠陥を正確かつ詳細に分析することが重要です。 SEMI-PointRend は、SEM 画像での半導体欠陥分析の精度と詳細を向上させるために設計された新しいテクノロジーです。 SEMI-PointRend は、機械学習アルゴリズムを使用して SEM 画像を分析するソフトウェアベースのソリューションです。 画像内の欠陥を高精度かつ詳細に検出および分類できます。 このソフトウェアはディープラーニングを組み合わせて使用​​しており、

精度と詳細を改善するための SEMI-PointRend を使用した SEM 画像の半導体欠陥の解析

SEM 画像内の半導体欠陥の分析に SEMI-PointRend を使用すると、精度と詳細を向上できる強力なツールになります。 この技術は、エンジニアや科学者が半導体材料の欠陥の性質をより深く理解できるように開発されました。 SEMI-PointRend を使用することで、エンジニアや科学者は SEM 画像内の欠陥を迅速かつ正確に特定し、分析できます。 SEMI-PointRend は、画像処理アルゴリズムと人工知能を組み合わせて SEM 画像を分析するソフトウェアベースのシステムです。 画像内の欠陥を検出して分類できます。

SEMI-PointRend を使用した半導体欠陥の SEM 画像解析でより高い精度と粒度を実現

半導体欠陥の eringSEM 画像解析は、欠陥を正確に特定して分類するために高い精度と粒度が必要な複雑なプロセスです。 この課題に対処するために、研究者は SEMI-PointRendering と呼ばれる新しい技術を開発しました。 この方法では、機械学習と画像処理を組み合わせて、欠陥分析の精度と粒度を高めます。SEMI-PointRendering 技術は、最初に SEM 画像を対象領域にセグメント化することで機能します。 これらの領域は機械学習アルゴリズムを使用して分析され、欠陥が特定および分類されます。 次に、アルゴリズムは次の 3D モデルを作成します。

SEMI-PointRend を使用した SEM 画像における半導体欠陥検出の総合的研究

半導体欠陥の検出は、集積回路の製造における重要なプロセスです。 最終製品が高品質であり、必要な基準を満たしていることを確認するには、製造プロセスにおける欠陥を検出することが重要です。 走査型電子顕微鏡 (SEM) 画像を使用して欠陥を検出することは、半導体表面の詳細な画像を提供できるため、ますます一般的になってきています。 しかし、従来の SEM 画像解析技術では欠陥を正確に検出する能力に限界がありました。最近では、SEMI-PointRendering と呼ばれる新しい技術が使用されています。

自動化された FPGA フレームワークを使用したおおよそのアクセラレータ アーキテクチャの探索

近似コンピューティングの出現により、ハードウェア設計者にとって新たな可能性の世界が開かれました。近似アクセラレータは、精度をある程度犠牲にして計算を高速化するために使用できるハードウェア アーキテクチャの一種です。自動化された FPGA フレームワークは、これらの近似アーキテクチャを探索するための強力なツールであり、設計者が精度とパフォーマンスの間のトレードオフを迅速に評価するのに役立ちます。近似アクセラレータは、精度をある程度犠牲にして、計算の完了にかかる時間を短縮するように設計されています。これは、計算に誤差を導入することによって行われます。

FPGA で自動化されたフレームワークを使用した近似アクセラレータ アーキテクチャの調査

近似アクセラレータ アーキテクチャを探索するためにフィールド プログラマブル ゲート アレイ (FPGA) を使用することは、近年ますます一般的になってきています。これは、特定のアプリケーションに合わせたカスタム ハードウェア ソリューションの開発を可能にする FPGA の柔軟性と拡張性によるものです。 FPGA 上の近似アクセラレータ アーキテクチャを探索するための自動フレームワークは、プロセスをより効率的でコスト効率の高いものにするために開発されました。 FPGA 上の近似アクセラレータ アーキテクチャを探索するための自動フレームワークは通常、高位合成ツール、最適化ツール、検証ツールの 3 つの主要コンポーネントで構成されます。

FPGA 上の自動化されたフレームワークを使用した近似アクセラレータの調査

フィールド プログラマブル ゲート アレイ (FPGA) は、幅広い業界でアプリケーションを高速化するためにますます人気が高まっています。 FPGA は、特定のニーズに合わせてハードウェアをカスタマイズできる機能を備えており、高性能と低消費電力を必要とするアプリケーションにとって魅力的な選択肢となっています。 FPGA 上でおおよそのアクセラレータを探索しやすくするための自動化されたフレームワークが開発されています。これらのフレームワークは、FPGA に近似アクセラレータを実装する際に、設計者が精度とパフォーマンスの間のトレードオフを迅速かつ簡単に検討できるプラットフォームを提供します。近似アクセラレータは、より高速なパフォーマンスを提供するように設計されています

FPGA オートメーション フレームワークを使用した近似アクセラレータ アーキテクチャの探索

近似のアクセラレータ アーキテクチャを探索するためにフィールド プログラマブル ゲート アレイ (FPGA) を使用することがますます一般的になりつつあります。 FPGA は、特定のタスクを実行するようにプログラムできる集積回路の一種であり、新しいアーキテクチャを検討するのに最適です。さらに、FPGA はハイ パフォーマンス コンピューティング アプリケーションでよく使用されるため、近似アクセラレータ アーキテクチャを探索するための理想的なプラットフォームとなっています。FPGA オートメーション フレームワーク (FAF) は、ユーザーが FPGA を使用して近似アクセラレータ アーキテクチャを迅速かつ簡単に探索できるようにするソフトウェア プラットフォームです。 FAF は、設計、シミュレーション、および実行のための包括的なツール セットを提供します。

FPGA アーキテクチャで自動化されたフレームワークを使用した近似アクセラレータの調査

フィールド プログラマブル ゲート アレイ (FPGA) は、高いパフォーマンスと柔軟性を提供できるため、近年その使用がますます普及しています。 FPGA は、特定のタスクを実行するようにプログラムできる集積回路の一種で、カスタム ハードウェア ソリューションの開発を可能にします。そのため、組み込みシステム、デジタル信号処理、画像処理などのアプリケーションによく使用されます。ただし、FPGA ベースのソリューションの開発は、手動による設計と最適化が必要なため、時間がかかり複雑になる可能性があります。この課題に対処するために、研究者たちは

自動化された FPGA フレームワークを使用した近似アクセラレータ アーキテクチャの探索

近似コンピューティングの可能性は何十年も研究されてきましたが、最近の FPGA フレームワークの進歩により、新たなレベルの研究が可能になりました。近似アクセラレータ アーキテクチャは、消費電力を削減し、パフォーマンスを向上させる方法を提供するため、ますます人気が高まっています。自動化された FPGA フレームワークが利用できるようになり、設計者が近似コンピューティングの可能性を迅速かつ簡単に検討できるようになりました。近似コンピューティングは、不正確な計算を使用して目的の結果を達成するコンピューティングの形式です。これは、消費電力の削減、パフォーマンスの向上、またはその両方に使用できます。おおよその加速器は次のとおりです。

2D 材料によるトランジスタ性能の向上: 接触抵抗の低減

トランジスタは現代のエレクトロニクスの構成要素であり、その性能は新しい技術の開発に不可欠です。技術が進歩するにつれて、より効率的なトランジスタの必要性が高まります。トランジスタの性能を向上させる 2 つの方法は、接触抵抗を減らすことです。接触抵抗は、2 つの材料が互いに接触しているときの、XNUMX つの材料間の抵抗です。大幅な電力損失が発生し、トランジスタの性能が制限される可能性があります。二次元 (XNUMXD) 材料の最近の進歩により、接触抵抗を低減する新たな可能性が開かれました。 XNUMXD マテリアルは原子の薄い層です

2D 材料によるトランジスタ性能の向上: 接触抵抗を最小化するための戦略。

The development of transistors has been a major factor in the advancement of modern technology. Transistors are used in a variety of applications, from computers and smartphones to medical devices and industrial equipment. However, one of the major challenges in transistor design is minimizing contact resistance. Contact resistance is the resistance between two metal contacts, and it can significantly reduce the performance of a transistor. Fortunately, recent advances in two-dimensional (2D) materials have provided new strategies for minimizing contact resistance and enhancing transistor performance.2D materials are atomically thin layers of