רזיסטים רגישים לליטוגרפיה דו-פוטונים במהירות גבוהה - Nature Nanotechnology

הערת המו"ל שפרינגר הטבע נשאר נייטרלי ביחס לתביעות שיפוטיות במפות שפורסמו ובשייכות מוסדית.

זהו תקציר של: Liu, T. et al. פוטו-רזיסטים בעלי מהירות הדפסה גבוהה במיוחד לייצור תוסף. נאט. ננוטכנול. https://doi.org/10.1038/s41565-023-01517-w (2023).

• הפצת תוכן ויחסי ציבור מופעל על ידי SEO. קבל הגברה היום.
• PlatoData.Network Vertical Generative Ai. העצים את עצמך. גישה כאן.
• PlatoAiStream. Web3 Intelligence. הידע מוגבר. גישה כאן.
• PlatoESG. פחמן, קלינטק, אנרגיה, סביבה, שמש, ניהול פסולת. גישה כאן.
• PlatoHealth. מודיעין ביוטכנולוגיה וניסויים קליניים. גישה כאן.
• מקור: https://www.nature.com/articles/s41565-023-01518-9