Photorésists sensibles pour la lithographie biphotonique à grande vitesse - Nature Nanotechnology

Photorésists sensibles pour la lithographie biphotonique à grande vitesse – Nature Nanotechnology

Nœud source: 2927706

Note de l'éditeur Springer Nature reste neutre en ce qui concerne les revendications juridictionnelles dans les cartes publiées et les affiliations institutionnelles.

Ceci est un résumé de : Liu, T. et coll. Photorésists à vitesse d'impression ultra-élevée pour la fabrication additive. Nat. Nanotechnologie. https://doi.org/10.1038/s41565-023-01517-w (2023).

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