UMC تقدم منصة 28eHV+ لتطبيقات العرض اللاسلكية وVR/AR وإنترنت الأشياء

أعاد نشره أفلاطون

المتابعون: 0

شركة الإلكترونيات الدقيقة المتحدةكشفت شركة سبك أشباه الموصلات العالمية ، عن منصة 28eHV + ، وهي تعزيز لتقنية الجهد العالي المضمنة (eHV) 28 نانومتر. من خلال توفير قدر أكبر من كفاءة الطاقة والجودة المرئية ، يعد 28eHV + حلاً مثاليًا لسائق العرض لتشغيل شاشات الجيل التالي المستخدمة في الهواتف الذكية وأجهزة الواقع الافتراضي والواقع المعزز وإنترنت الأشياء.

مقارنةً بعملية 28nm eHV التي أثبتت جدواها ، يوفر حل 28eHV + من UMC انخفاضًا يصل إلى 15٪ في استهلاك الطاقة دون المساس بجودة الصورة أو معدلات البيانات ، مما يلبي الطلب على عمر أطول لبطارية الأجهزة. كما يوفر ميزات محسّنة لتمكين دقة أعلى في التحكم في الجهد ومرونة أكبر لمصممي الشرائح.

بالنسبة لتقنية eHV ، تعد 28nm حاليًا أكثر عمليات مسبك تقدمًا لمحركات عرض اللوحات الصغيرة (SDDI) ، المستخدمة في لوحات AMOLED التي يتم تبنيها بشكل متزايد في الهواتف الذكية المتطورة وأجهزة AR / VR. UMC هي مزود المسابك بأكثر من 85٪ من سوق SDDI 28 نانومتر ، بعد أن شحنت أكثر من 400 مليون وحدة منذ أن بدأ حجم الإنتاج في عام 2020.

يقول ستيفن هسو ، نائب رئيس تطوير التكنولوجيا في UMC: "نحن متحمسون لتقديم منصة 28eHV + الخاصة بنا ، والتي اكتسبت بالفعل اهتمام العديد من العملاء وستدخل الإنتاج في النصف الأول من عام 2023". "بصفتها شركة رائدة في مجال تقنيات السباكة المتخصصة ، تقدم UMC حلولًا متميزة تتماشى مع خرائط طريق عملائنا ، وتمكينهم من اقتناص الفرص في الأسواق سريعة النمو. بعد إصدار 28eHV + ، ستعمل فرق التطوير لدينا على توسيع حلول برنامج تشغيل شاشة العرض إلى 22 نانومتر وما بعده ".

تتميز تقنية 28eHV + من UMC بخلايا بت SRAM الصغيرة ، مما يقلل من مساحة الرقاقة. وهو يعتمد على تقنية High-K / Metal Gate الأخيرة من بوابة 28 نانومتر للشركة ، والتي تتميز بالتسرب المنخفض وأداء الطاقة الديناميكي.

التعليق على هذه المقالة أدناه أو عبر تويتر:IoTNow_OR تضمين التغريدة